dcsimg Atomlagenabscheidung - RÖMPP, Thieme

Atomlagenabscheidung

Bearbeitet von: Juliane Katharina Wesener   

(Abkürzung ALD, von atomic layer deposition). ALD ist eine wichtige Technik zur kontrollierten Abscheidung dünner Schichten (Filme) auf planaren oder nanostrukturierten festen Oberflächen und pulverförmigen Substanzen. Abgeschieden werden können verschiedenste Substanzen wie Metalle, Metalloxide, Halbleiter und Polymere. Die ALD wird u. a. in der Halbleitertechnik, Mikroelektronik und Nanotechnik eingesetzt.

Die Methode wurde schon…


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Letzte Aktualisierung: Januar 2016

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